[1] W. J. Liang, L. Ma, H. Liu, J. Li, Chemosphere, 2013, 92, 1390–1395.
[2] Y. Liu, M. Shao, L. L. Fu, S. H. Lu, L. M. Zeng, D. G. Tang, Atmos. Environ., 2008, 42, 6247–6260.
[3] P. S. Zhao, F. Dong, Y. D. Yang, D. He, X. J. Zhao, W. Z. Zhang, Q. Yao, H. Y. Liu, Atmos. Environ., 2013, 71, 389–398.
[4] J. Y. Zheng, M. Shao, W. W. Che, L. J. Zhang, L. J. Zhong, Y. H. Zhang, D. Streets, Environ. Sci. Technol., 2009, 43, 8580–8586.
[5] K. H. Kim, S. A. Jahan, E. Kabir, Environ. Int., 2013, 59, 41–52.
[6] C. Y. Ma, Z. Mu, C. He, P. Li, J. J. Li, Z. P. Hao, J. Environ. Sci., 2011, 23, 2078–2086.
[7] F. Dong, H. Q. Wang, G. Sen, Z. B. Wu, S. C. Lee, J. Hazard. Mater., 2011, 187, 509–516.
[8] W. Z. Wang, X. Fan, T. L. Zhu, H. N. Wang, D. Q. Ye, X. W. Hong, Chem. Eng. J., 2016, 299, 184–191.
[9] Z. X. Zhang, Z. Jiang, W. F. Shangguan, Catal. Today, 2016, 264, 270–278.
[10] A. M. Harling, D. J. Glover, J. C. Whitehead, K. Zhang, Appl. Catal. B, 2009, 90, 157–161.
[11] M. J. Lu, R. Huang, J. L. Wu, M. L. Fu, L. M. Chen, D. Q. Ye, Catal. Today, 2015, 242, 274–286.
[12] J. Van Durme, J. Dewulf, W. Sysmans, C. Leys, H. Van Langenhove, Chemosphere, 2007, 68, 1821–1829.
[13] I. Aouadi, J. M. Tatibouët, L. Bergaoui, Plasma Chem. Plasma Process., 2016, 36, 1485–1499.
[14] X. J. Tang, F. Q. Feng, L. L. Ye, X. M. Zhang, Y. F. Huang, Z. Liu, K. P. Yan, Catal. Today, 2013, 211, 39–43.
[15] A. M. Vandenbroucke, R. Morent, N. De Geyter, C. Leys, J. Hazard. Mater., 2011, 195, 30–54.
[16] F. D. Feng, Y. Y. Zheng, X. J. Shen, Q. Z. Zheng, S. L. Dai, X. M. Zhang, Y. F. Huang, Z. P. Liu, K. Yan, Environ. Sci. Technol., 2015, 49, 6831–6837.
[17] X. X. Xu, P. T. Wang, W. C. Xu, J. L. Wu, L. M. Chen, M. L. Fu, D. Q. Ye, Chem. Eng. J., 2016, 283, 276–284.
[18] J. L. Wu, Y. X. Huang, Q. B. Xia, Z. Li, Plasma Chem. Plasma Process., 2013, 33, 1073–1082.
[19] L. Wang, C. B. Zhang, H. He, F. D. Liu, C. X. Wang, J. Phys. Chem. C, 2016, 120, 6136–6144.
[20] Y. Z. Li, Z. Y. Fan, J. W. Shi, Z. Y. Liu, J. W. Zhou, W. F. Shangguan, Catal. Today, 2015, 256, 178–185.
[21] U. Roland, F. Holzer, F.D. Kopinke, Appl. Catal. B, 2005, 58, 217–226.
[22] W. Li, S. T. Oyama, J. Am. Chem. Soc., 1998, 120, 9047–9052.
[23] B. Dhandapani, S. T. Oyama, Appl. Catal. B, 1997, 11, 129–166.
[24] H. Chen, Y. Wang, Y. K. Lv, RSC Adv., 2016, 6, 54032–54040.
[25] S. H. Liang, F. Teng, G. Bulgan, R. L. Zong, Y. F. Zhu, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 5307–5315.
[26] E. Saputra, S. Muhammad, H. Q. Sun, H. M. Ang, M. Q. Tade, S. B. Wang, Environ. Sci. Technol., 2013, 47, 5882–5887.
[27] J. H. Zhang, Y. B. Li, L. Wang, C. B. Zhang, H. He, Catal. Sci. Technol., 2015, 5, 2305–2313.
[28] X. C. Duan, J. Q. Yang, H. Y. Gao, J. M. Ma, L. F. Jiao, W. J. Zheng, CrystEngComm, 2012, 14, 4196–4204.
[29] G. Cheng, L. Yu, B. Lan, M. Sun, T. Lin, Z. W. Fu, X. H. Su, M. Q. Qiu, C. H. Guo, B. Xu, Mater. Res. Bull., 2016, 75, 17–24.
[30] L. Benhaddad, C. Bazin, L. Makhloufi, B. Messaoudi, F. Pillier, K. Rahmouni, H. Takenouti, J. Solid State Electrochem., 2014, 18, 2111–2121.
[31] A. Rousseau, A. Dantier, L. Gatilova, Y. Ionikh, J. Röpcke, Y. Tolmachev, Plasma Sources Sci. Technol., 2005, 14, 70–75.
[32] Z. Bo, J. H. Yan, X. D. Li, Y. Chi, K. Cen, J. Hazard. Mater., 2009, 166, 1210–1216.
[33] Y. Z. Li, Z. Y. Fan, J. W. Shi, Z. Y. Liu, W. F. Shangguan, Chem. Eng. J., 2014, 241, 251–258.
[34] Y. Z. Li, Z. Y. Fan, J. W. Shi, Z. Y. Liu, J. W. Zhou, W. F. Shangguan, Plasma Chem. Plasma Process., 2014, 34, 801–810.
[35] S. Devaraj, N. Munichandraiah, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 4406–4417.
[36] T. Gao, M. Glerup, F. Krumeich, R. Nesper, H. Fjellvåg, P. Norby, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 13134–13140.
[37] M. M. Thackeray, Prog. Solid State Chem., 1997, 25, 1–71.
[38] C. Julien, M. Massot, S. Rangan, M. Lemal, D. Guyomard, J. Raman Spectrosc, 2002, 33, 223–228.
[39] Y. Chabre, J. Pannetier, Prog. Solid State Chem., 1995, 23, 1–130.
[40] X. H. Zhang, X. Y. Liu, B. X. Li, Q. X. Chu, Y. Wang, X. P. Zhao, X. F. Wang, J. Mater. Sci. Mater. Electron., 2013, 24, 2189–2196.
[41] J. E. Post, D. R. Veblen, Am. Mineral., 1990, 75, 477–489.
[42] T. Gao, H. Fjellvåg, P. Norby, Anal. Chim. Acta, 2009, 648, 235–239.
[43] A. K. Sinha, M. Pradhan, T. Pal, J. Phys. Chem. C, 2013, 117, 23976–23986.
[44] L. Christel, A. Pierre, D. A. M. R. Abel, Thermochim. Acta, 1997, 306, 51–59.
[45] S. C. Kim, W. G. Shim, Appl. Catal. B, 2010, 98, 180–185.
[46] Q. Ye, L. Yan, H. P. Wang, S. Y. Cheng, D. Wang, T. F. Kang, H. X. Dai, Appl. Catal. A, 2012, 431–432, 42–48.
[47] M. C. Biesinger, B. P. Payne, A. P. Grosvenor, L.W. M. Lau, A. R. Gerson, R. S. C. Smart, Appl. Surf. Sci., 2011, 257, 2717–2730.
[48] V. P. Santos, M. F. R. Pereira, J. J. M. Órfão, J. L. Figueiredo, Appl. Catal. B, 2010, 99, 353–363.
[49] M. Toupin, T. Brousse, D. Bélanger, Chem. Mater., 2004, 16, 3184–3190.
[50] M. Chigane, M. Ishikawa, M. Izaki, J. Electrochem. Soc., 2001, 148, D96–D101.
[51] D. Q. Yu, Y. Liu, Z. B. Wu, Catal. Commun., 2010, 11, 788–791.
[52] H. B. Huang, D. Q. Ye, D. Y. Leung, F. D. Feng, X. J. Guan, J. Mol. Catal. A, 2011, 336, 87–93. |