[1] J. Zhang, D. Q. Liu, W. J. Bian, X. H. Chen, Desalination, 2012, 304, 49-56.
[2] L. Ren, J. Zhang, Y. Li, C. L. Zhang, Chem. Eng. J., 2011, 168, 553-561.
[3] B. H. Hameed, I. A. W. Tan, A. L. Ahmad, Chem. Eng. J., 2008, 144, 235-244.
[4] S. G. Chung, Y. S. Chang, J. W. Choi, K. Y. Baek, S. W. Hong, S. T. Yun, S. H. Lee, Chem. Eng. J., 2013, 215, 921-928.
[5] Z. Zhang, Q. H. Shen, N. Cissoko, J. Wo, X. Xu, J. Hazard. Mater., 2010, 182, 252-258.
[6] T. Zhou, Y. Z. Li, T. T. Lim, Sep. Purif. Technol., 2010, 76, 206-214.
[7] A. O. Olaniran, E. O. Igbinosa, Chemosphere, 2011, 83, 1297-1306.
[8] L. Liu, F. Chen, F. Yang, Y. Chen, J. Crittenden, Chem. Eng. J., 2012, 181, 189-195.
[9] N. Zhang, M. Q. Yang, S. Q. Liu, Y. G. Sun, Y. J. Xu, Chem. Rev., 2015, 115, 10307-10377.
[10] T. K. Tseng, Y. S. Lin, Y. J. Chen, H. Chu, Int. J. Mol. Sci., 2010, 11, 2336-2361.
[11] F. Ribonia, L. G. Bettini, D. W. Bahnemann, E. Selli, Catal. Today, 2013, 209, 28-34.
[12] X. F. Lei, X. X. Xue, Mater. Sci. Semicond. Process., 2008, 11, 117-121.
[13] H. Liu, T. Xia, H. K. Shon, S. Vigneswaran, J. Ind. Eng. Chem., 2011, 17, 461-467.
[14] L. Li, C. Y. Liu, Y. Liu, Mater. Chem. Phys., 2009, 113, 551-557.
[15] S. Q. Liu, Z. R. Tang, Y. G. Sun, J. C. Colmenares, Y. J. Xu, Chem. Soc. Rev., 2015, 44, 5053-5075.
[16] K. Esumi, S. Nakagawa, T. Yosh?mu, J. Jpn Soc. Colour Mater., 2004, 77, 13-18.
[17] Y. Cho, H. Kyung, W. Choi, Appl. Catal. B, 2004, 52, 23-32.
[18] E. O. Scott-Emuakpor, A. Kruth, M. J. Todd, A. Raab, G. I. Paton, D. E. Macphee, Appl. Catal. B, 2012, 123, 433-439.
[19] H. Wang, J. P. Lewis, J. Phys: Condens. Matter, 2005, 17, L209-L213.
[20] C. D. Valentin, G. Pacchioni, A. Selloni, Chem. Mater., 2005, 17, 6656-6665.
[21] L. Li, C. Y. Liu, Y. Liu, Mater. Chem. Phys., 2009, 113, 551-557.
[22] D. E. Gu, B. C. Yang, Y. D. Hu, Catal. Lett., 2007, 118, 254-259.
[23] S. M. Chang, W. S. Liu, Appl. Catal. B, 2011, 101, 333-342.
[24] J. E. Herrera, T. T. Isimjan, I. Abdullahi, A. Ray, S. Rohani, Appl. Catal. A, 2012, 417, 13-18.
[25] L. E. Briand, O. P. Tkachenko, M. Guraya, X. Gao, I. E. Wachs, W. Grunert, J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 4823-4830.
[26] T. M. D. Dang, T. M. H. Nguyen, H. P. Nguyen, Adv. Nat. Sci., 2010, 1, 1-10.
[27] K. R. Gota, S. Suresh, Asian J. Chem., 2014, 26, 7087-7101.
[28] C. A. H. Aguilar, T. Pandiyan, J. A. Arenas-Alatorre, N. Singh, Sep. Purif. Technol., 2015, 149, 265-278.
[29] A. Kambur, G. S. Pozan, I. Boz, Appl. Catal. B, 2012, 115, 149-158.
[30] J. G. Yu, B. Wang, Appl. Catal. B, 2010, 94, 295-302.
[31] A. P. Zhang, J. Z. Zhang, Spectrochim. Acta Part A, 2009, 73, 336-341.
[32] V. D. Nithya, R. K. Selvan, C. Sanjeeviraja, D. M. Radheep, S. Arumugam S, Mater. Res. Bull., 2011, 46, 1654-1658.
[33] F. Bai, D. S. Wang, Z. Y. Huo, W. Chen, L. P. Liu, X. Liang, C. Chen, X. Wang, Q. Peng, Y. D. Li, Angew. Chem. Int. Ed., 2007, 46, 6650-6653.
[34] N. Molahasani, M. S. Sadjadi, K. Zare, Int. J. Nano Dimens., 2013, 4, 161-166.
[35] M. Shang, W. Z. Wang, L. Zhou, S. M. Sun, W. Z. Yin, J. Hazard. Mater., 2009, 172, 338-344.
[36] F. Lei, B. Yan, H. H. Chen, Q. Zhang, J. T. Zhao, Cryst. Growth Des., 2009, 9, 3730-3736.
[37] M. Kanna, S. Wongnawa, Mater. Chem. Phys., 2008, 110, 166-175.
[38] G. C. Chen, X. Q. Shan, Y. S. Wang, B. Wen, Z. G. Pei, Y. N. Xie, T. Liu, J. J. Pignatello, Water Res., 2009, 43, 2409-2418.
[39] P. Venkatesan, J. Santhanalakshmi, Nanosci. Nanotechnol., 2011, 1, 43-47.
[40] L. Q. Jing, H. G. Fu, B. Q. Wang, D. J. Wang, B. F. Xin, S. Li, J. Z. Sun, Appl. Catal. B, 2006, 62, 282-291.
[41] Z. Y. Liu, D. D. Sun, P. Guo, J. O. Leckie, Nano Lett., 2007, 7, 1081-1085.
[42] C. Han, M. Q. Yang, N. Zhang, Y. J. Xu, J. Mater. Chem. A, 2014, 2, 19156-19166.
[43] C. Han, Z. Chen, N. Zhang, J. C. Colmenares, Y. J. Xu, Adv. Funct. Mater., 2015, 25, 221-229.
[44] H. Benhebal, M. Chai, T. Salmon, J. Geens, A. Leonard, S. D. Lambert, M. Crine, B. Heinrichs, Alexandria Eng. J., 2013, 52, 517-523.
[45] J. B. Zhong, J. Z. Li, Z. H. Xiao, W. Hu, X. B. Zhou, X. W. Zheng, Mater. Lett., 2012, 91, 301-303.
[46] W. F. Yao, X. H. Xiao, H. Wang, J. T. Zhou, X. N. Yang, Y. Zhang, S. X. Shang, B. B. Huang, Appl. Catal. B, 2004, 52, 109-116.
[47] M. D. Hernandez-Alonso, I. Tejedor-Tejedor, J. M. Coronado, J. Soria, M. A. Anderson, Thin Solid Films, 2006, 502, 125-131.
[48] L. Kokporka, S. Onsuratoom, T. Puangpetch, S. Chavadej, Mater. Sci. Semicond. Process, 2013, 16, 667-678.
[49] B. Neppolian, Q. Wang, H. Yamashita, H. Choi, Appl. Catal. A, 2007, 333, 264-271.
[50] J. C. Wu, C. S. Chung, C. L. Ay, I. K. Wang, J. Catal., 1984, 87, 98-107.
[51] Y. Xu, C. H. Langford, J. Phys. Chem., 1995, 99, 11501-11507.
[52] Y. Xu, C. H. Langford, J. Phys. Chem., 1997, 101, 3115-3121.
[53] DY. Xu, C. H. Langford, Langmuir, 2001, 17, 897-902.
[54] J. Yu, A. Kudo, Adv. Funct. Mater., 2006, 16, 2163-2169.
[55] D. L. Liao, B. Q. Liao, J. Photochem. Photobiol. A, 2007, 187, 363-369.
[56] J. S. Valente, F. Tzompantzi, J. Prince, J. G. H. Cortez, R. Gomez, Appl. Catal. B, 2009, 90, 330-338. |